Hochgeordnete Strukturen im Sub-45nm-Bereich
Die Herstellung ausgedehnter und hochgeordneter Strukturen im Sub-45nm-Bereich wird aufgrund der physikalischen Einschränkungen herkömmlicher Lithografiemethoden in der Zukunft eine große Herausforderung darstellen. Diblockcopolymere (DBC) stehen seit über 10 Jahren im Zentrum wissenschaftlicher Untersuchungen und sind gut verstanden. Der wissenschaftliche und industrielle Bedarf nach entwicklungsfähigen Alternativen zu konventionellen Lithografie-techniken, die ständigen Fortschritte in der Polymerchemie und ein zunehmendes Verständnis der Physik ...